MBE/MOCVD TECHNOLOGY
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MOCVD装置
加熱方式
均一性の良い高性能膜を作製するためには基板面内の温度均一性に優れた加熱機構が必要です。
当社では、開発当初より抵抗加熱方式を採用し、長年蓄積した技術で±1.5℃以内を達成しています。
特長
ガスフローパターンに合わせたサセプタ形状が任意に選択
リアクタ廻りがスッキリし、リアクタメンテナンス作業が簡単
ヒーター部がメンテナンスフリー
量産装置への対応が簡単かつ低価格
金属製リアクタが採用でき、安全性が向上
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